반도체 공정기초 및 양산설비

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총 학습일:390일 | 학습시간:12시간 | 난이도:초급 | 강사:김준성 | 강의금액:35,640원 | 교재:없음
반도체
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  • 반도체 공정의 전반적인 내용을 알 수 있었습니다.
  • 기본적인 반도체 공정에 대해 쉽고 자세하게 배울 수 있었습니다.
  • 좋은 강의였습니다.
  • 반도체 공정과 설비의 기초에 대해 배울 수 있어 좋았습니다.
과정분류
수료기준
진도80%이상, 시험2회
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    강의목표

    - 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있습니다.
    - 반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있습니다.

    강의내용

    - 반도체 Fab에 대해 학습합니다.
    - 산화 공정에 대해 학습합니다.
    - CVD에 대해 학습합니다.

    학습대상

    - 반도체 제조 장비 관련 직무 종사자

    추가정보

    학습방법 : html5
    학습정원 : 150명

    근로자 직업능력개발훈련 수강포기 시 패널티

    훈련수강 중 수강포기한 경우 지원한도액이 차감됩니다.
    수강포기 횟수 1회 2회 3회 이상
    지원한도액 차감 20만원 50만원 100만원

    학습목차

    반도체 공정기초 및 양산설비
    1. 반도체 Fab과 Utility29 분
    2. 산화공정27 분
    3. CVD39 분
    4. PECVD34 분
    5. LPCVD29 분
    6. APCVD와 HDPCVD30 분
    7. MOCVD와 ALD29 분
    8. PVD26 분
    9. Photo Lithography31 분
    10.Etching34 분
    11.Wet Etching과 반도체 설비 동향29 분

    강사소개

    강사명 김준성
    약력
    [경력]
    삼성전자주식회사 (18년)

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